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貴家 恒男; 早川 直宏; 吉田 健三; 萩原 幸
Polymer, 26, p.1039 - 1045, 1985/00
被引用回数：84 パーセンタイル：95.03(Polymer Science)主鎖が芳香環で構成された10種類の芳香族系ポリマーの電子線による劣化挙動を引張り試験にもとずく力学的特性の変化から検討した。熱および紫外線に対して良好な耐性を示すこれらポリマーも電子線に対し異なった耐放射線性を示した。また、耐放射線性はそれぞれのポリマーの化学構造と密接に関係することが明らかとなった。ポリマー自体の耐放射線性と化学構造を相互に比較することにより、ポリマーを構成するユニットの電子線に対する安定性のおおよその序列を決定することができた。
貴家 恒男; 萩原 幸
EIM-84-132, p.37 - 46, 1984/00
ポリイミド,ポリ(エーテル・エーテル・ケトン)PEEKなど11種類の芳香族系ポリマーを酸素圧0.7MPa下で5
10
Gy/mの線量率の
線を照射し、酸化雰囲気下での劣化挙動を主として引張り試験により検討した。芳香族系ポリマーも酸化雰囲気では劣化が促進され、真空中照射に擬せられる電子線照射の場合と較べて約1桁低い線量で劣化することがわかった。しかし放射線に対するポリマーを構成するユニットの安定性の序列は電子線の場合とは変らなかった。PEEKについての粘弾性測定から酸化雰囲気では架橋は起らず、もっぱら主鎖切断で劣化が起ることが実験的に確かめられた。また、構造の異なるポリイミドの耐放射線性の相互比較からも、電子線照射の場合は主鎖切断と同時に架橋も起るが、酸化雰囲気下では架橋は起らないことが示唆された。
貴家 恒男; 早川 直宏; 吉田 健三; 萩原 幸
EIM-83-130, p.37 - 46, 1983/00
主鎖が芳香環で構成されている9種類の全芳香族系ポリマーを最大12000Mradまで電子線照射し、引張り特性の変化を指標として耐放射線性の評価を行った。放射線劣化は伸びの低下に最も良く反映され、線量と共に低下した。線量と伸びの低下の関係および化学構造を対比させることにより、芳香環を結び合せている結合様式の耐放射線性のおおよその序列が明らかとなった。すなわち、イミド
エーテル、ケトンアミドビスフェノールAスルホンである。また比較的低線量で劣化するU-polymers Udel-polysulfone(U-ps)について照射後の動的粘弾性測定を行なった。その結果、劣化は主として主鎖切断により起ること、U-PSではスルホン基部分で主鎖切断が起ることが明らかになった。
瀬口 忠男; 荒川 和夫; 吉田 健三; 山本 康彰*; 柳生 秀樹*
EIM-83-132, p.53 - 61, 1983/00
各種の芳香族高分子材料の耐放射線性、特に低線量率長期間照射条件における耐放射線性をしらべるために、酸素加圧下照射を行ない、電気絶縁抵抗,比重,引張り試験を行なった。また比較のために空気中高線量率照射も行ない、同じ測定をした。ポリイミド,ポリエーテルイミド,ポリアミド,ポリエーテルケトンは酸素加圧下照射による放射線酸化劣化に対しても、400Mrad以上の耐放射線性を示した。これに対し、ポリサルホン,ポリエーテルサルホン,ポリブチレンテレフタレート,ポリカーボネイトは50~100Mradで、伸びが著るしく低下した。
